每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：請(qǐng)問陸總，據(jù)您了解，目前國(guó)內(nèi)下游晶圓廠是否有28nm以下缺陷檢測(cè)分析儀器，用于后期貴司高制程光刻膠的開發(fā)呢？

南大光電（300346.SZ）6月2日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，目前國(guó)內(nèi)28nm以下制程用光刻膠缺陷檢測(cè)設(shè)備主要集中在國(guó)內(nèi)晶圓廠處?，F(xiàn)階段，公司ArF光刻膠的產(chǎn)品驗(yàn)證主要集中在90nm~28nm制程工藝，后續(xù)將視項(xiàng)目需要，確定缺陷檢測(cè)儀的選用方案。

(記者 王可然)

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